天眼查顯示，北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司“一種進(jìn)氣管的清洗方法及半導(dǎo)體工藝設(shè)備”專利公布，申請公布日為2024年9月24日，申請公布號(hào)為CN118692884A。

本申請公開了一種進(jìn)氣管的清洗方法及半導(dǎo)體工藝設(shè)備，進(jìn)氣管作為等離子體發(fā)生腔，并用于向工藝腔室通入等離子體以對(duì)晶圓進(jìn)行工藝，清洗方法包括：在每完成預(yù)設(shè)數(shù)量的晶圓的工藝后，向進(jìn)氣管通入第一清洗氣體，并加載射頻功率以激發(fā)第一清洗氣體；控制進(jìn)氣管內(nèi)的氣壓在第一預(yù)設(shè)壓力維持第一預(yù)設(shè)時(shí)間，以及在第二預(yù)設(shè)壓力維持第二預(yù)設(shè)時(shí)間，第一預(yù)設(shè)壓力與第二預(yù)設(shè)壓力的比值大于等于6且小于等于14，第一預(yù)設(shè)時(shí)間與第二預(yù)設(shè)時(shí)間的比值大于等于0.5且小于等于2。本申請通過對(duì)進(jìn)氣管進(jìn)行批次間清洗，可以對(duì)雜質(zhì)顆粒進(jìn)行清洗，避免產(chǎn)生花狀缺陷，由于析晶得到及時(shí)清洗，不需要經(jīng)常停機(jī)更換進(jìn)氣管，延長了進(jìn)氣管的壽命，成本降低，提高了生產(chǎn)率。