2024年11月18-21日，第十屆國際第三代半導(dǎo)體論壇（IFWS2024）&第二十一屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇（SSLCHINA2024）、先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)應(yīng)用創(chuàng)新展（CASTAS）將在蘇州國際博覽中心G館舉辦。
值此盛會之際，江蘇南大光電材料股份有限公司誠摯邀請第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)同仁共聚論壇。?
?關(guān)于南大光電
江蘇南大光電材料股份有限公司總部位于江蘇蘇州，誕生于國家“863”計劃，創(chuàng)辦于 2000年，成長于國家“02-專項(xiàng)”,2012年8月7日在深交所創(chuàng)業(yè)板掛牌上市(股票代碼300346)。公司主要從事前驅(qū)體材料、電子特氣、光刻膠及配套材料的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，在江蘇蘇州、浙江寧波、安徽滁州、山東淄博、內(nèi)蒙古烏蘭察布設(shè)立研發(fā)生產(chǎn)基地，在北美設(shè)立營銷服務(wù)中心，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于IC、LCD、LED、OLED、功率器件、半導(dǎo)體激光器、新能源等領(lǐng)域。
依托國家級博士后科研工作站、江蘇省企業(yè)技術(shù)中心、高純電子材料工程研究中心、高純金屬有機(jī)化合物MO源材料工程技術(shù)研究中心、外國專家工作室等自主創(chuàng)新平臺，公司深耕前驅(qū)體、電子特氣和光刻膠等關(guān)鍵“卡脖子”電子材料，圓滿完成了包括國家“863計劃”MO源全系列產(chǎn)品，國家“02-專項(xiàng)”高純電子氣體(砷烷、磷烷)、ALD/CVD前驅(qū)體、193nm ArF光刻膠及配套材料研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，相關(guān)部委薄膜沉積用前驅(qū)體產(chǎn)業(yè)化等國家、省、市重大技術(shù)攻關(guān)專項(xiàng)36項(xiàng)，其中國家級重大科技攻關(guān)17項(xiàng)，在MO源、前驅(qū) 體、電子特氣、光刻膠領(lǐng)域持續(xù)攻克“卡脖子”技術(shù)，打破封鎖，技術(shù)水平躋身世界前列，相繼獲評國家級"專精特新小巨人’企業(yè)”“制造業(yè)單項(xiàng)冠軍示范企業(yè)”以及“國家知識產(chǎn)權(quán)示范企業(yè)”等。?
Company Profile
based?in Suzhou of Jiangsu,Jiangsu Nata Opto-electronic Material Co.,Ltd.(Nata)was founded in 2000,and listed on Growth Enterprise Market of Shenzhen Stock Exchange (Stock Code:300346)on August?7,2012.?Nata engages ?in R&D and industrialization of?Precursor Materials,Electronic Special Gases and Photoresist,with R&D and production?sites in Suzhou of Jiangsu,Ningbo of Zhejiang,Chuzhou of Anhui,Zibo of Shandong,and Ulanqab of Inner?Mongolia?as?well?as marketing service center in North?America(Sonata).It’s?products are?extensively?applied in IC,LCD,LED,OLED,power devices,semiconductor lasers,new?energy,etc.?
based?on?independent?innovation?platforms including National Postdoctoral Research Workstation,Jiangsu ?Enterprise Technology Center,High-Purity Electronic Materials?Engineering Research Center,High-Purity MO Sources Engineering and Technology?Research Center,Foreign Expert Workstation,etc.,Nata develops key ?electronic Materials such as precursors,electronic special gases and photoresist,and has successfully?completed ?many projects,such as whole series of MO sources,high-purity electronic?special gases(PH?&AsH?),ALD/CVD ?precursors,R&D and industrialization of photoresist and?supporting?materials,and?industrialization?of precursors for thin film deposition.?
For further information on CASI, please visit our website at: www.natachem.com?
產(chǎn)品介紹/about Products
一、先進(jìn)前驅(qū)體材料
n?MO源系列產(chǎn)品：應(yīng)用于LED、IC、功率器件、新能源等產(chǎn)業(yè)。
n?MO sources: Application in LED,IC,Power devices,New energy,etc.
n?高純ALD/CVD前驅(qū)體：應(yīng)用于IC、第三代半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜、新能源等產(chǎn)業(yè)。
n?High-purity ALD/CVD precursors: Application in IC,Third-generation semiconductor,optical coating,new energy,etc..
n?OLED材料：應(yīng)用于OLED等行業(yè)。
n?OLED materials:?Application in OLED industry.
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二、電子特氣
n?氫類特氣：應(yīng)用于LED、LCD、OLED、IC、新能源等產(chǎn)業(yè)。
n?Hydrogen Related Electronic Special Gases: Application in LED,LCD,OLED,IC,New energy,etc.
n?氟類特氣：應(yīng)用于LCD、OLED、IC、新能源等產(chǎn)業(yè)。
n?Fluorine Related Electronic Special Gases: Application in LCD,OLED,IC,new energy,etc..
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三、光刻膠及配套材料
n?193nm ArF光刻膠及光敏劑等配套材料：應(yīng)用于14nm-90nm IC等產(chǎn)業(yè)。
n?193nm ArF photoresist,photosensitizer and other supporting materials: Application in 14-90nm IC,etc.
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??參會聯(lián)系
?今年，第十屆國際第三代半導(dǎo)體論壇&第二十一屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇（IFWS＆SSLCHINA2024）將于11月18-21日在蘇州國際博覽中心舉辦，國內(nèi)外院士專家齊聚，數(shù)十場會議活動，數(shù)百位報告嘉賓，全產(chǎn)業(yè)鏈知名企業(yè)參與&參展，內(nèi)容全面覆蓋行業(yè)工藝裝備、原材料、技術(shù)、產(chǎn)品與應(yīng)用各環(huán)節(jié)，融合聚集產(chǎn)、學(xué)、研、用、政、金多個層面的資源，年度國際第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)“風(fēng)向標(biāo)”盛會，11月相聚蘇州，共襄盛會，共謀發(fā)展！歡迎業(yè)界同仁咨詢參展參會，免費(fèi)觀展交流合作！》》》最新60+報告嘉賓公布！IFWS&SSLCHINA2024報名中！
