據璞璘科技官微消息，8月1日，璞璘科技自主設計研發的首臺PL-SR系列噴墨步進式納米壓印設備順利通過驗收并交付至國內特色工藝客戶。

據悉，PL-SR系列噴墨步進式納米壓印設備攻克了步進硬板的非真空完全貼合、噴膠與薄膠壓印、壓印膠殘余層控制等關鍵技術難題，可對應線寬＜10nm 的納米壓印光刻工藝。

PL-SR系列通過創新材料配方與工藝調控，提高膠滴密度與鋪展度，成功實現了納米級的壓印膜厚，平均殘余層＜10nm，殘余層變化＜2nm，壓印結構深寬比>7:1的技術指標。發展了匹配噴膠步進壓印工藝與后續半導體加工工藝的多款納米壓印膠體系，特別是開發了可溶劑清洗的光固化納米壓印膠，解決了昂貴石英模板可能被殘留壓印膠污染的潛在風險，為高精度步進納米壓印提供了可靠材料保障。

此外，PL-SR重復步進壓印系統還可滿足模板拼接的需求，最小可實現20mmx20mm的壓印模板均勻的拼接，最終可實現300mm(12in)晶圓級超大面積的模板。該款設備目前已經初步完成儲存芯片、硅基微顯、硅光及先進封裝等芯片研發驗證。